光源功率/光罩檢測大有斬獲　EUV微影商用有眉目

作者： Kurt Ronse
2015 年 08 月 03 日
隨著台積電成功以更高功率的掃描光源運行極紫外光(EUV)微影系統，加上IMEC與EIDEC發布新的光罩基板檢測工具研究成果，EUV微影設備吞吐量(Throughput)及生產良率已逐漸達到晶圓廠量產標準，並有望在10奈米以下製程商用。
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