藉助度量目標設計工具 先進記憶體重疊精準度躍升

在微影製程(Lithography)中,由於裝置節點收縮及採用多模式方法,重疊變得更有難度。而重疊規範也更嚴密,因此必須採用更為複雜的重疊控制方法,如高階或逐欄位控制。此外,嚴密的重疊規範開始產生另一個根本性問題︰精準度。重疊誤差主要取決於兩大要素︰一個是測量品質,另一個是表現裝置重疊。對於後者,重疊依據重疊目標而非實際裝置結構測量。本文針對精準度重疊測量展開以下研究︰透過模擬設計最佳目標,使用測量品質指數選取最佳方法,以及與裝置模式重疊的關聯性。
2016 年 01 月 10 日

登入會員

本站程式甫於2022.5.5更新,
所有舊會員必須先點擊:
忘記密碼 進行密碼確認後,才能正常登入。

上述動作目的在於確保帳號安全性,造成不便懇請見諒。如您已重設過密碼,請忽略此訊息。