【前進矽谷特別報導】推動45奈米製程設計 明導nmOPC強化微影技術

作者: 趙珮菁
2007 年 01 月 29 日
在消費性電子高度成長以及半導體製程技術持續演進下,EDA工具亦須提升技術以滿足新需求,明導國際(Mentor Graphics)針對65奈米以下的製程,推出第三代光學製程修正技術(OPC)電子設計自動化(EDA)平台Calibre...
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