檢測10奈米以下半導體 CD-SEM量測技術邁大步

作者: Ofer Adan
2014 年 08 月 18 日
半導體進入10奈米以下技術節點或三維(3D)結構時,將面臨嚴重的導孔偏移問題,所幸,設備商已研發出具備更高影像解析能力的微距量測掃描式電子顯微鏡(CD-SEM),可提供更清晰的對焦和更精細的量測影像,有效克服導孔對準挑戰。
》想看更多內容?快來【免費加入會員】【登入會員】,享受更多閱讀文章的權限喔!
標籤
相關文章

汽車e化大勢已定 智慧型門鎖設計有訣竅

2006 年 04 月 10 日

高畫質影音世代躍進 藍光DVD控制技術再升級

2008 年 10 月 01 日

搭起數位/類比設計橋樑 整合型混合訊號EDA顧全大局

2008 年 10 月 07 日

搭配OpenCL標準 FPGA實現高效平行運算能力

2014 年 06 月 14 日

不受潮濕/波動溫度影響  洗碗機磁簧開關有妙用

2017 年 03 月 19 日

提高聲壓級有訣竅 電感器賦予壓電發聲器多優勢

2022 年 05 月 08 日
前一篇
善用反動電勢電壓掌握轉子方位 無感測BLDC設計更Easy
下一篇
宜特AE聲發射測試可預防高頻PCB焊盤坑裂