綠光雷射二極體量產 MEMS微投影現鋒芒

作者: 黃耀瑋
2011 年 12 月 19 日

微機電系統(MEMS)微投影發展可望大幅躍進。尤其在直接放射綠光雷射二極體(Direct-emitting Green Laser Diode)於2012上半年量產後,將使MEMS雷射微投影光機,突破以往採用合成綠光技術的尺寸限制,進一步讓厚度微縮至7毫米以下,並達到高解析度投射效果,從而提高行動裝置製造商導入的意願與速度。


先進微系統總經理洪昌黎提到,2012~2013年各種搭載微投影機的產品將大量出爐,目前正是卡位供應鏈的絕佳時機。




先進微系統總經理洪昌黎表示,2012年歐司朗(OSRAM)、EpiCrystal及康寧(Corning)的綠光雷射二極體正式量產後,勢將帶動更輕薄、解析度及能源效率更高,且開發成本更低的MEMS雷射微投影機問世。如此一來,MEMS雷射微投影機即能滿足導入智慧型手機、平板電腦等產品的尺寸及效能要求,吸引行動裝置製造商採用。


事實上,除MEMS雷射微投影外,數位光源處理(DLP)及矽基液晶(LCoS)技術陣營亦積極耕耘行動市場,競爭態勢也愈趨白熱化;然而,微投影機要嵌入行動裝置,不僅須考量模組體積,投影解析度更是一大關鍵。


洪昌黎指出,目前行動裝置皆相當注重顯示螢幕畫質,為能銜接使用者體驗,對投影解析度的要求也隨之攀高,支援SVGA(800×600)已成基本要求,甚至也有原始設備製造商(OEM)開出720p(1,280×720)規格;顯見微投影機須兼顧小尺寸及高解析度,方能打入行動市場。


洪昌黎進一步分析,相較於DLP及LCoS技術在提高解析度時所面臨的艱鉅挑戰,MEMS雷射微投影則在綠光雷射二極體補足技術缺口後,已能兼具高解析度與輕薄尺寸的效益,令業界為之振奮並對其在行動裝置市場的後勢發展極具信心。


事實上,突破綠光雷射二極體的技術瓶頸,已激勵既有MEMS微投影機製造商加碼投資,並吸引許多OEM及模組廠的矚目,期能搭上行動裝置導入微投影功能的熱潮,從而刺激明年公司的營收成長。


洪昌黎透露,全球知名的MEMS雷射微投影機業者–Microvision,已規畫在2012下半年採用紅、藍、綠光雷射二極體打造7毫米厚度以下的光機引擎,同時也將推升MEMS掃描鏡的解析度臻至720p水準,期以兼具高解析度、輕薄尺寸的雙重優勢,爭食行動裝置內建微投影功能的商機大餅。


無獨有偶,先進微系統也積極開發MEMS雷射掃描晶片,以及720p二維MEMS掃描鏡;同時在綠光雷射二極體面市的鼓舞下,開始切入光機引擎研發領域,期發展出整套MEMS雷射微投影模組解決方案,助力模組廠快速切入微投影市場。洪昌黎強調,先進微系統明年將發表寬僅4.5毫米的MEMS雷射掃描晶片,並採用晶圓級封裝(WLP)或CoB(Chip on Board)封裝,壓低總體晶片尺寸;同時,還會把晶片掃瞄頻率提升至支援720p解析度,以滿足MEMS微投影機模組開發商全方位設計需求。


至於光機引擎部分,配合MEMS雷射掃描晶片的推出,先進微系統也會開發厚度7~8毫米的光機引擎,並達到亮度15流明(lm)、耗電量僅1瓦(W)的水準。不過,洪昌黎強調,先進微系統仍以提供MEMS晶片為主,並不打算擴大量產光機引擎,而是以整套微投影機解決方案協助模組廠快速導入設計。

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