2008年ASML年度研究成果發布大會特別報導

記憶體應用商機可期 微影設備需求持續走揚

作者: 王智弘
2008 年 11 月 03 日
今年10月中旬,本刊受邀參加微影設備大廠ASML於荷蘭總部舉辦的年度研究成果發布大會,除深入了解全球金融風暴對ASML與微影設備市場的衝擊及未來發展方向外,亦帶回雙重成像與EUV微影技術的最新進展,裨益讀者掌握晶片創新的重要趨勢。
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