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u-blox搭載nRF54L的NORA-B2:具備精巧、節能及安全特性的新一代藍牙 LE 模組

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2025 年 09 月 03 日
Ansys HPC關鍵挑戰與對策技術研討會─Ansys (2)

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2025 年 08 月 25 日
Ansys HPC關鍵挑戰與對策技術研討會─Ansys (1)

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2025 年 08 月 25 日
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圖1 從左至右分別為:透明線條(曝光)、暗線條(未曝光)、透明孔洞、暗柱,顯示EUV製程中跨特徵與節距的量測誤差,凸顯線性度校正需求。

克服曲線光罩設計挑戰 像素級曝光校正效果卓越

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2025 年 10 月 31 日
圖1 imec分級系統的範例此處提及的計算採用逐步方法:先測定各成分的分子量和單體比例,接著考量各化合物在該光阻劑配方的分子量百分比,最後計算各化合物內部的PFAS原子百分比,並明確排除氫原子。為了確保一致性,芳香氟結構未被視為PFAS,並將溶劑忽略不計,因為溶劑在處理過程中會蒸發。

排除半導體製程中的PFAS 光阻/清洗材料取得初步進展

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