競逐FinFET設計商機 EDA廠搶推16/14奈米新工具 - 市場話題 - 新電子科技雜誌 Micro-electronics


熱門關鍵字:電源模組 | SiC | 機器視覺 | GaN | 5G

訂閱電子報

立刻輸入Email,獲取最新的資訊:


收藏功能:
分享報新知:
其他功能:

競逐FinFET設計商機 EDA廠搶推16/14奈米新工具

文‧鄭景尤 發布日期:2013/08/26

EDA業者正大舉在FinFET市場攻城掠地。隨著台積電、聯電和英特爾(Intel)等半導體製造大廠積極投入16/14奈米FinFET製程研發,EDA工具開發商也亦步亦趨,並爭相發布相應解決方案,以協助IC設計商克服電晶體結構改變所帶來的新挑戰,卡位先進製程市場。

圖1 與平面電晶體結構不同的FinFET製程,將帶給IC設計商另一波挑戰。

例如益華(Cadence)即針對28奈米以下製程及FinFET製程發布最新版Virtuoso布局(Layout)設計套件,該套件具備電子意識設計(Electrically Aware Design, EAD)功能,可以協助行動裝置積體電路(IC)設計商縮短產品設計週期並提高客製IC效能。  

》想看更多內容?快來【免費加入會員】【登入會員】,享受更多閱讀文章的權限喔!
研討會專區
主題式電子報
熱門文章