半導體製造業新型晶圓檢測系統開發商Qcept宣布絕緣層上覆矽(SOI)與其他工程基板的領導供應商Soitec，將採用其ChemetriQ 3000非光學可視性缺陷(NVD)檢測系統。ChemetriQ系統安裝於Soitec的Bernin II 12吋SOI製程晶圓廠中，目前應用於裸晶圓(Bare Silicon Wafer)的進料品管與SOI晶圓的製程監視。
為爭取Soitec的採用，Qcept ChemetriQ解決方案必須符合Soitec嚴格的投資報酬率(ROI)與製造可靠度標準。在成功完成工具評估與後續訂單後，雙方亦同意參與SOI應用開發的持續努力，專注於擴展Qcept技術在各種現有的檢測應用，並開發新的應用，藉以改善Soitec SOI晶圓的製程控制、品質與最終良率。
Qcept的ChemetriQ平台提供快速、全晶片、線上的非光學可視性缺陷檢測，包括有機與無機的殘餘物、金屬污染物、製程導致的電荷、水痕，以及其他光學檢測系統無法偵測到的非可視性殘餘物缺陷。為了達成上述功能，ChemetriQ運用一項創新的非破壞技術，能偵測半導體晶圓表面的功函數變化量(Work Function Variations)。ChemetriQ平台的靈敏度達到5E9 atoms/cm2等同於在20萬平方公分的範圍內的1個原子)，這超越國際半導體技術藍圖(ITRS)對於22奈米節點所規範的金屬污染物偵測要求。
Qcept網址：www.qceptech.com
