益華布局依賴效應解決方案獲聯華認證

益華宣布旗下Cadence Virtuoso布局依賴效應(Layout-Dependent Effects, LDE)Analyzer分析方案通過聯華電子認證,支援其28奈米HPCU製程技術,使用者能利用該解決方案來減輕客製/類比設計中的LDE,最多可將布局後重複作業減少至一半,並將設計收斂速度加快最多四成。 ...
2016 年 04 月 21 日

益華推出新一代Virtuoso平台

益華宣布推出下一代Virtuoso平台,可為設計人員提供10倍的跨平台效能與容量提升。此平台包含在Cadence Virtuoso類比設計環境(Virtuoso Analog Design Environment,...
2016 年 04 月 11 日