奈米製程步步為營

設計工具/製程設備相輔相成 光學微影效能淋漓盡致

作者: 高聖弘
2008 年 09 月 08 日
光學微影製程原本僅是製造端最重要的步驟,然而,隨著半導體積體電路持續微縮,微影效能已無法單純仰賴設備機台的精進來達成,而須同時搭配適當的EDA工具與量測技術,以因應先進製程節點世代的來臨。
》想看更多內容?快來【免費加入會員】【登入會員】,享受更多閱讀文章的權限喔!
標籤
相關文章

寬頻時代的殺手應用VoIP商機話不完

2004 年 12 月 27 日

建構RFID開放式系統平台 互通性標準為重要基礎

2005 年 02 月 04 日

PC/嵌入式系統分工合作 智慧型視訊監控撒下天羅地網

2010 年 09 月 13 日

價格/技術問題待解 曲面電視/手機普及挑戰大

2014 年 04 月 21 日

專訪Keyssa執行長Eric Almgren 非接觸式連接器2秒傳完1GB電影

2016 年 02 月 22 日

工業物聯網/5G量測商機可期 開放平台策略兩頭通吃

2016 年 12 月 22 日
前一篇
智微獲ARM9系列處理器授權
下一篇
普樺科技/Intel攜手開啟SOHO族多元數位生活