【前進矽谷特別報導】推動45奈米製程設計 明導nmOPC強化微影技術

作者: 趙珮菁
2007 年 01 月 29 日
在消費性電子高度成長以及半導體製程技術持續演進下,EDA工具亦須提升技術以滿足新需求,明導國際(Mentor Graphics)針對65奈米以下的製程,推出第三代光學製程修正技術(OPC)電子設計自動化(EDA)平台Calibre...
》想看更多內容?快來【免費加入會員】【登入會員】,享受更多閱讀文章的權限喔!
標籤
相關文章

寬頻通訊蔚然成風 FPGA搶攻聯網商機

2011 年 04 月 01 日

邁入28奈米世代 FPGA躍升系統核心元件

2012 年 06 月 04 日

晶粒/封裝廠全速擴產 2014年大陸LED產值強勁增長

2014 年 08 月 09 日

插旗數位電源市場 電源晶片商火力全開

2015 年 01 月 26 日

頭戴顯示器改寫人機互動模式 適應性繪圖/語音控制技術竄起

2016 年 06 月 02 日

IoT防護軟硬兼施 英飛凌:OPTIGA提升企業價值

2021 年 01 月 25 日
前一篇
瑞薩SiGe功率電晶體可運用於功率放大器
下一篇
安捷倫發表7Gb/s和12.5Gb/s碼型產生器