【前進矽谷特別報導】推動45奈米製程設計 明導nmOPC強化微影技術

作者: 趙珮菁
2007 年 01 月 29 日
在消費性電子高度成長以及半導體製程技術持續演進下,EDA工具亦須提升技術以滿足新需求,明導國際(Mentor Graphics)針對65奈米以下的製程,推出第三代光學製程修正技術(OPC)電子設計自動化(EDA)平台Calibre...
》想看更多內容?快來【免費加入會員】【登入會員】,享受更多閱讀文章的權限喔!
標籤
相關文章

雙重曝光技術護航 ArF浸潤式微影穩居主流

2008 年 09 月 01 日

成本續降/易用性提升 LED加速取代白熾燈

2012 年 08 月 05 日

專訪PowerbyProxi副總裁Tony Francesca Qi磁共振系統叫陣A4WP

2015 年 07 月 06 日

專訪遠傳企業暨國際事業群執行副總經理李浩正 布建智慧城市須先了解城市需求

2016 年 08 月 08 日

結合AI精準升級 3D列印強化彈性生產優勢

2022 年 09 月 03 日

稀土精鍊門檻被高估 美國技術與產能突圍正在加速

2025 年 11 月 17 日
前一篇
瑞薩SiGe功率電晶體可運用於功率放大器
下一篇
安捷倫發表7Gb/s和12.5Gb/s碼型產生器