克服100奈米以下製程光罩缺陷 反射光圖形檢測效果倍增

2007 年 01 月 29 日
反射光在超紫外線微影技術世代的應用甚為重要。本文將分三期介紹如何在65奈米製程中,利用反射光來增強光罩圖案的檢測,本期首先探討傳統鉻膜式光罩及半透光罩在反射光下的特性,下期將討論圖形背景及圖形陣列的兩個規則,並剖析其是否會影響110~65奈米製程的檢測能力。
》想看更多內容?快來【免費加入會員】【登入會員】,享受更多閱讀文章的權限喔!
標籤
相關文章

技術優勢派上用場 RFID分食製藥/醫療大餅

2008 年 12 月 29 日

符合多元設計需求 AFG打造脈衝產生方案

2009 年 01 月 15 日

對位/強度控制得宜 繞射波束整形器應用層面廣

2010 年 07 月 29 日

IGBT/MOSFET技術突飛 太陽能面板轉換效率猛進

2011 年 09 月 26 日

疫情推波工業自動化 AI視覺提升檢測效率/精準度

2020 年 11 月 09 日

三大分析工具助攻 晶圓表面粗糙度量測精準

2021 年 03 月 29 日
前一篇
瑞薩SiGe功率電晶體可運用於功率放大器
下一篇
安捷倫發表7Gb/s和12.5Gb/s碼型產生器