圖形背景與排列方向影響偵測效果 穿透光與反射光檢測各擅勝場

2007 年 03 月 02 日
反射光在超紫外線微影技術(EUV)世代的應用已甚為重要,特別是在65奈米製程中,更可利用反射光來增強光罩圖案的檢測。在新電子250期中,已了解傳統鉻膜式(Binary)光罩及半透式(Half-tone)光罩在110奈米製程圖形中,使用穿透光與反射光進行規畫缺陷(Programmed...
》想看更多內容?快來【免費加入會員】【登入會員】,享受更多閱讀文章的權限喔!
標籤
相關文章

滿足低成本/低抖動需求 晶體緩衝器降低設計風險

2011 年 03 月 28 日

晶片級變壓器隔離技術護體 數位電源運作更可靠

2015 年 01 月 08 日

借力BiCMOS製程 超音波接收器實現低雜訊/功耗

2015 年 12 月 03 日

無線電架構攸關訊號干擾/共存 射頻採樣/零中頻設計細思量

2022 年 05 月 05 日

PD 3.1克服相容性挑戰 USB快充240W達陣

2022 年 05 月 19 日

開拓疾病治療新途徑 生物電子藥物前景可期(1)

2023 年 12 月 04 日
前一篇
AnalogicTech發表電源管理IC- AAT1275
下一篇
2.5MHz/40V降壓轉換器提供1.4安培電流