圖形背景與排列方向影響偵測效果 穿透光與反射光檢測各擅勝場

2007 年 03 月 02 日
反射光在超紫外線微影技術(EUV)世代的應用已甚為重要,特別是在65奈米製程中,更可利用反射光來增強光罩圖案的檢測。在新電子250期中,已了解傳統鉻膜式(Binary)光罩及半透式(Half-tone)光罩在110奈米製程圖形中,使用穿透光與反射光進行規畫缺陷(Programmed...
》想看更多內容?快來【免費加入會員】【登入會員】,享受更多閱讀文章的權限喔!
標籤
相關文章

改善控管機制 網路頻寬資源分配更恰當

2009 年 11 月 02 日

電氣安全/性能驗證考量不同 兩岸電動車馬達標準差異大

2012 年 04 月 12 日

借力Thunderbolt菊花鏈架構 筆電周邊功能擴充更彈性

2012 年 05 月 03 日

金字塔生產製程方案襄助 製造商克服精密加工變量挑戰

2015 年 06 月 18 日

控制字元確保資料鏈結可靠度 JESD204B介面傳輸更順暢

2015 年 01 月 05 日

傳輸頻寬/頻譜效益最大化 LTE三載波聚合技術成主流

2015 年 10 月 05 日
前一篇
AnalogicTech發表電源管理IC- AAT1275
下一篇
2.5MHz/40V降壓轉換器提供1.4安培電流