延續摩爾定律 EUV技術角色關鍵

作者: 蕭凱木
2017 年 06 月 08 日
台積電已宣布將在2018年第二代7奈米製程中開始導入EUV微影技術,以做為5奈米全面採用EUV的先期準備。儘管目前EUV設備曝光速度仍不如期待且價格極為高昂,但與採用雙重或多重曝光技術相比,EUV的投資對解決先進製程不斷攀升的成本問題仍是相對有力的解決方案。
》想看更多內容?快來【免費加入會員】【登入會員】,享受更多閱讀文章的權限喔!
標籤
相關文章

力抗標準化浪潮 EDA供應商大打特色牌

2010 年 06 月 21 日

矽中介層製造商漸增 2.5D晶片成本將逐步下滑

2012 年 10 月 22 日

解決製造業者痛點 感測器導入成果立竿見影

2017 年 05 月 28 日

專訪Vivo 5G研發中心總監秦飛 Vivo積極插旗5G手機商機

2019 年 12 月 08 日

全流程嵌入式安全軟體防護最穩當

2023 年 01 月 16 日

居家能源系統管理效率大增 家庭儲能/V2H應用可期(2)

2024 年 07 月 19 日
前一篇
Molex推出Brad M12 LED機床照明燈套件
下一篇
IMEC/TNO攜手發布12位元塑膠RFID標籤