從微米走向奈米 半導體製程推進難關不斷

作者: 葉同成
2005 年 10 月 21 日
根據新修訂ITRS(International Technology Roadmap for Semiconductors)技術藍圖,清楚地指出目前半導體製程技術,已經從早期微米以上製程不斷地微縮,經過0.1微米以下,進入到「奈米」世代...
》想看更多內容?快來【免費加入會員】【登入會員】,享受更多閱讀文章的權限喔!
標籤
相關文章

遲滯降壓設計助力 LED驅動器電流控制更穩定

2012 年 08 月 02 日

簡化USB Type-C Alt模式測試 新一代驗證解決方案展妙用

2017 年 04 月 17 日

四大技術各有新突破 矽光子整合難題有解

2022 年 08 月 18 日

EUV微影面臨六大挑戰 材料工程/計量技術解難題

2022 年 09 月 01 日

電阻材料百百種 選對電阻特性保產品穩定(1)

2024 年 03 月 12 日

量子雜訊現難題 AI解碼器改寫糾錯賽局

2025 年 11 月 17 日
前一篇
Freescale DSPD56374讓更多人享受杜比音效技術
下一篇
MCU技術發展暨應用解析研討會11月3日登場