打通量產關鍵環節 高功率LPP光源加速EUV商用

2011 年 12 月 29 日
EUV微影預計將在後193奈米浸潤式微影技術時代,成為關鍵尺寸成像的解決方案,而高功率LPP光源系統則是實現EUV微影商用的重要條件;藉由超過400瓦輸出功率的LPP光源,可滿足光阻劑靈敏度等各方面的製程需求,並進一步抑制光學元件的退化。
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