艾司摩爾(ASML)宣布一台灣客戶利用該公司TWINSCAN XT:400F i-Line曝光機在24小時內，連續每小時處理150片12吋晶圓，單日可處理3,596片晶圓。
該產品全球銷售量超過700台，採用艾司摩爾雙平台(Dual-stage)晶圓處理技術，由兩個平台交替執行量測和微影功能，因此能不間斷地完成晶圓微影製程。艾司摩爾計畫在2007底推出最新XT:400G機型，其產能將比現有機種高出一成，可進一步強化i-Line曝光機產品陣容。
該曝光機與其他12吋曝光機都是以TWINSCAN設備做為平台，除了讓晶片廠商的設備升級更容易之外，同時也能讓他們擁有足以與其他設備匹配的效能。由於該曝光機能與KrF/ArF製程設備搭配，因此記憶晶片製造商將更能受惠於它的高生產力。
艾司摩爾表示：該曝光機不僅可提供業界高處理效能，更可為45奈米製程的量產提供精確的微影疊對(Overlay)，隨著記憶晶片製造商逐漸轉向45奈米浸入式微影技術，後段製程中各層間的疊對精確度將成為未來幾年成功的關鍵。
該曝光機具成熟而高效率的微影技術，適合處理較大的晶片電路結構，且因擁有強大效能及低成本等優點，因此日益受到晶片製造商的歡迎。此外，兼具先進技術和高生產力的獨特組合優勢，更使得i-Line微影設備成為晶片製造商尋求最佳化生產架構的關鍵技術。
艾司摩爾網址：www.asml.com
