西門子數位化工業軟體近期推出Aprisa實體設計解決方案的最新版本Aprisa 21.R1。該版本在效能及技術上均取得了重大進展，能夠大幅改善執行時間並減少記憶體用量。對於客戶而言，這些進展將有助於其降低設計成本並縮短上市時間。
此次 Aprisa 21.R1的技術提升，專注於先進的技術節點，其包括平均全流程的執行時間比前一版本減少30%，而且對於更大型、更複雜的設計，其執行時間最多可提升兩倍。針對全部佈局與繞線的主要引擎均進行了改善，包括佈局、時脈樹合成(CTS)、佈線佳化以及時序分析。這些效能提升的優勢幾乎可以在所有IC設計中得以體現，特別是包含複雜多重邊界多重模式(MCMM)特徵的大型設計速度提升2倍之多。
記憶體用量減少60%，大型設計能夠在可用記憶體較少的伺服器上完成。支援6 nm/5nm/4 nm 設計。目前Aprisa已通過6nm製程的全面認證，可支援多重電源域(MPD)。這些延伸功能可大幅提升MPD支援的彈性與完整性，這點對低功耗設計至為關鍵。
西門子數位化工業軟體Aprisa產品系列部門總監Inki Hong表示，這次Aprisa的全新版本再次表明了西門子致力於為EDA客戶提供實體設計技術。有了Aprisa21.R1，客戶可以比以往更有效率地完成更大型、更複雜的設計。
