雙重曝光技術護航 ArF浸潤式微影穩居主流

作者: 王智弘
2008 年 09 月 01 日
在雙重曝光技術與相關設備漸趨成熟的加持下,原本面臨物理極限的193奈米浸潤式微影因而得以延伸應用至32奈米與22奈米製程節點,成為下一世代微影製程的主流技術。
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