突破先進製程關卡 EUV揭開半導體發展新頁

作者: Ludo Deferm
2014 年 06 月 23 日
半導體可望持續遵循摩爾定律步伐。半導體進入先進奈米製程世代,研發挑戰與投資成本已逐年遽增,因此研究機構、設備製造商與半導廠已加緊攜手合作,期於今明兩年突破極紫外光(EUV)微影設備的商用挑戰,讓半導體能以合理的生產成本繼續演進。
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