奈米製程步步為營

設計工具/製程設備相輔相成 光學微影效能淋漓盡致

作者: 高聖弘
2008 年 09 月 08 日
光學微影製程原本僅是製造端最重要的步驟,然而,隨著半導體積體電路持續微縮,微影效能已無法單純仰賴設備機台的精進來達成,而須同時搭配適當的EDA工具與量測技術,以因應先進製程節點世代的來臨。
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