20奈米製程聲聲催 EUV光罩/晶圓檢測發展趕進度

作者: 林苑卿
2011 年 10 月 03 日
在先進製程邁入20奈米之際,半導體設備商正積極透過策略結盟方式發展EUV光罩缺陷檢測系統,以加速實現EUV技術應用於20奈米節點的目標;另一方面,擁有更高晶圓缺陷檢測精準度與吞吐量的電子束晶圓缺陷檢視設備,需求也逐漸看漲。
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