CYMER與KLA-TENCOR合作加速顯影製程的最佳化

2006 年 05 月 02 日

Cymer日前宣布與KLA-Tencor簽署共同合作的協議。在協議簽署之後,Cymer將會提供光源光譜的各項細節以整合至KLA-Tencor的符合業界標準的顯影最佳化工具PROLITH。
 

此外,兩家公司期望共同開發功能更強大PROLITH版本。透過此項合作,Cymer和KLA-Tencor計畫運用其已獲得認可的專業技術提供更高的準確度,讓使用者能夠立即獲得更精準的光學顯影製程表現。因此,顧客可以快速地進行其顯影製程的最佳化,進而縮短其量產前所需的準備時間,將整體的投資報酬率(ROI)增至最大,在今日先進的顯影競技場中藉由取得關鍵差異性而獲得成功。
 

先進的顯影製程最佳化工具PROLITH可幫助使用者在評估製程效能的改善時,洞悉顯影製程參數響。同時,透過新的增效功能,讓PROLITH的顧客夠在其先進的顯影製程中,將光源光譜特性的變化所造成的影響加以模型化,並且使用這些結果將其製程有效地最佳化,將差異所造成影響減至最小。使用者現在可以取得PROLITH最新的版本9.3.1。
 

Cymer網址:www.cymer.com
 

KLA-Tencor網址:www.kla-tencor.com
 

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