EUV微影面臨六大挑戰 材料工程/計量技術解難題

作者: Regina Freed
2022 年 09 月 01 日
半個多世紀以來,傳統摩爾定律2D縮放定義了半導體產業的技術路線圖。在2000年左右的Dennard縮放時代,半導體業界每兩年可以將電晶體尺寸縮小50%。 圖1 從1970年代至今,電晶體微縮的方法已走過三個階段...
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圖1 imec分級系統的範例此處提及的計算採用逐步方法:先測定各成分的分子量和單體比例,接著考量各化合物在該光阻劑配方的分子量百分比,最後計算各化合物內部的PFAS原子百分比,並明確排除氫原子。為了確保一致性,芳香氟結構未被視為PFAS,並將溶劑忽略不計,因為溶劑在處理過程中會蒸發。

排除半導體製程中的PFAS 光阻/清洗材料取得初步進展

2025 年 10 月 29 日
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