藉助度量目標設計工具 先進記憶體重疊精準度躍升

在微影製程(Lithography)中,由於裝置節點收縮及採用多模式方法,重疊變得更有難度。而重疊規範也更嚴密,因此必須採用更為複雜的重疊控制方法,如高階或逐欄位控制。此外,嚴密的重疊規範開始產生另一...
2016 年 01 月 10 日