台版晶片法補貼門檻定案 2024年正式適用
被稱為台版晶片法的產業創新條例第10條之2修正草案，已由經濟部自5月1日預告30日。這部名為「公司前瞻創新研究發展及先進製程設備支出適用投資抵減辦法」的草案規定，研發費用達60億元、研發密度達6%、購置用於先進製程之設備支出達100億元的企業，將可向經濟部提出申請，通過審核者將於2024年報稅時享有租稅優惠。
資誠聯合會計師事務所稅務法律服務會計師林巨峯對此草案進行重點整理如下：
前瞻創新技術&高階製程的定義
前瞻創新研發：指公司投資國內、外尚未全面具體成熟，但具有未來競爭優勢的國際領先技術；或公司針對國際市場相對成熟的技術，投入創新應用研究發展，使得該項技術產生領導型技術或開發新型態應用等。
先進製程：指公司投資於尚未成熟，但未來將可商業化量產的前瞻領先技術；或公司就已經達商業化量產的成熟製造技術，再投入創新性的應用。
前瞻創新研發活動種類
研發活動以建立自主研究發展能力為原則(除個別研究發展計畫有部分委外必要)，故應設置有專責從事研究發展活動的單位，從事原型或新產品、新服務生產程序的開發設計，以及開發新原料、新材料或零組件。但若是為改進現有產品、生產程序及現有原料、材料或零組件所投入的研究發展活動，則不屬前瞻創新範圍。
前瞻創新研發支出&營收占比門檻
在同一課稅年度內的研究發展費用達新台幣60億元，且在同一課稅年度內的研究發展費用占營業收入淨額比率達6%。
前瞻創新研發活動地點與成果使用限制
研發活動以在我國境內從事者才能認列。但考量到國內外產學研共同研究發展乃現行產業創新之常態，故與國內外公司、大專校院或研究機構共同研究發展，其所為之支出部分亦得列入適用。
研發的產品或技術，以專供公司自行使用為原則，如供他人製造或使用，應取得合理的權利金或報酬；未收取合理權利金或報酬者，應能提示合理利潤配置的移轉訂價文件等。
先進製程支出門檻、安裝地點限制
公司同一課稅年度購置自行使用在先進製程的全新機器或設備支出(僅限硬體)，總金額達新臺幣100億元者才可適用，且安裝地點以公司自有或承租的我國境內生產場所為限。但因行業特性須安裝在我國境內特定處所者，不在此限。購置後3年內安裝地點如有變動，公司應自行向稅捐稽徵機關申請備查。
有效稅率門檻
申請適用者的年度有效稅率應達規定比率，112年度為12%，113年度原則為15%，但得調整為12%，114年度起為15%。所謂有效稅率是指公司當年度應納所得稅額，減除1)依境外所得來源國稅法規定繳納之所得稅可扣抵之稅額、2)大陸地區來源所得在大陸地區及第三地區已繳納之所得稅可扣抵稅額、3)依法律規定之投資抵減稅額，其餘額占全年所得額的比率。全年所得額以稽徵機關核定數為準，投資抵減稅額以公司當年度實際抵減額計算。
抵減率規定
前瞻創新研究發展支出，得按支出金額25%，抵減當年度應納營所稅額，並以不超過該公司當年度應納營所稅額30%為限。研發支出以稅捐稽徵機關核定數為準，不包括政府補助款及研究發展單位產生之收入在內。
先進製程全新機器或設備，得按支出總金額5%，抵減當年度應納營所稅額，並以不超過當年度應納營所稅額30%為限。並以公司購置機器或設備的交貨年度為適用年度。
公司同一年度合併上述兩項投資抵減，或與產創條例、其他法律規定的投資抵減合併適用時，合計得抵減總額不得超過當年度應納營所稅額的50%。但依其他法律規定當年度為最後抵減年度且抵減金額不受限制者，不在此限。
申請程序
公司應於辦理當年度營所稅結算申報期間開始前三個月起至申報期間截止日內(曆年制為2月1日至5月31日)，檢附紙本文件向經濟部申請審查是否符合資格條件，並提出前瞻創新研發支出證明文件，或購置先進製程全新機器設備之支出證明文件及先進製程投資計畫等，逾期申請者不予受理。
不得重複適用租稅優惠
公司經核准適用前瞻創新研究發展及先進製程設備支出投資抵減者，當年度全部研究發展支出，不得再適用產創條例及其他法律有關研究發展支出的所得稅優惠；當年度全部購置機器及設備支出，也不得適用產創條例及其他法律規定之機器或設備投資的所得稅優惠。
申請更正程序
經審查不符合適用條件者，可在主管機關審查結果送達之次日起一個月內，向稅捐稽徵機關申請更正改適用產創條例第10條研發投資抵減及第10條之1智慧機械投資抵減，並且副知經濟部。經濟部規劃的草案是將就原申請文件改依更正申請項目審核，其中智慧機械設備也不受線上申請的限制。
3年內不得移轉變更目的
申請專供前瞻創新研發用的專利權、專用技術、著作權、專業性或特殊性之資料庫、軟體程式及系統，或使用於先進製程的全新機器或設備，在購置之次日起3年內不得轉借、出租、轉售、退貨、安裝地點不符或變更原使用目的，否則應補稅並加計利息。但依企業併購法規定辦理合併、分割...
2023 年 05 月 03 日
