功耗降十倍 ULV製程催生下世代物聯網SoC

超低電壓(ULV)製程將成物聯網發展的關鍵技術。半導體廠除加緊投入先進奈米製程外,亦已積極開發超低電壓製程;相較於現今電壓約1伏特(V)的標準製程,超低電壓製程可降至0.7或0.3~0.4伏特,讓系統單晶片(SoC)動態功耗縮減一半甚至十分之一,以滿足物聯網應用對更低耗電量的要求。 工研院資通所生醫與工業積體電路技術組低功耗混合訊號部組長朱元華認為,超低電壓製程將成為半導體產業新的技術競逐焦點。 ...
2014 年 11 月 06 日