AI浪潮與政治夾擊 半導體設備三雄預測大分歧

舊金山Palace Hotel的會議廳裡出現了一個耐人尋味的場景。面對高盛分析師Jim Schneider關於2025年晶圓廠設備市場前景的提問,Applied Materials CEO Gary Dickerson給出「低單位數成長」的保守預測,KLA...
2025 年 09 月 14 日

應材聯手歐洲研究重鎮 搶攻特殊晶片商機

全球半導體設備龍頭應用材料公司(Applied Materials)與法國知名研究機構CEA-Leti宣布擴大聯合實驗室合作,聚焦開發物聯網、通訊、汽車、電源和感測器(ICAPS)市場所需的特殊晶片技術。這項合作不僅標誌著兩家機構長期夥伴關係的深化,更反映出特殊晶片市場在AI時代的戰略重要性。 根據預測,到2025年機器將產生每年創建數據的99%,其中大部分將來自網路邊緣的數十億個物聯網產品。這些應用從工業自動化到電動車輛,都需要專門的晶片來處理數據和電源分配,為ICAPS市場帶來龐大成長機會。 背景:特殊晶片市場的崛起 這一現象背後,隱含著半導體產業結構的深層變化。過去產業焦點多集中在先進邏輯和記憶體晶片,但隨著智慧裝置普及和AI應用擴展,非領先製程的特殊晶片需求快速攀升。這些晶片雖然不追求最先進的製程節點,卻在功能整合和效能最佳化方面面臨全新挑戰。 ICAPS市場涵蓋的應用範圍極為廣泛,從CMOS影像感測器、光電元件、射頻晶片,到電源管理晶片和類比數位轉換器,每一類產品都有其獨特的技術要求。這些特殊晶片在AI時代扮演著感知世界、產生資訊並透過無線通訊傳輸的關鍵角色,其重要性正快速提升。 更深入地分析會發現,傳統的單一晶片解決方案已難以滿足多元化的應用需求。產業界正朝向異質整合的方向發展,將不同功能的晶片整合在同一封裝中,這對材料工程和封裝技術提出了更高要求。 核心技術:異質整合與全流程開發 應用材料公司和CEA-Leti此次合作的核心,在於建立完整的特殊晶片開發能力。擴建後的實驗室將配備最新進的封裝工具,支援不同晶圓類型和製程節點的異質整合,這項技術被視為下一代半導體創新的關鍵。 異質整合技術允許將採用不同製程技術製造的晶片組合在一起,例如將矽基邏輯晶片與化合物半導體的射頻晶片整合,或是將類比和數位功能結合在同一封裝中。這種做法不僅能提升效能,還能縮小產品體積並降低成本。 實驗室的另一項重要創新是全流程開發能力,從個別製程步驟擴展到完整的特殊裝置開發。這意味著從材料選擇、製程設計到最終封裝測試的每個環節都能在同一地點完成,大幅縮短開發週期並提升創新效率。 值得注意的是,這次合作特別強調化合物半導體的先進整合技術,包括氮化鎵和磷化銦等材料。這些來自週期表第三族和第五族元素的化合物,在5G/6G通訊、電動車和光通訊等高速、高頻應用中表現出色,其產生光線和支援更快電子移動性的特性,使其成為高效能、節能應用的理想選擇。 產業觀點:歐美合作新模式 面對這項重大合作,兩家機構的領導者展現出不同層面的戰略思考。應用材料公司ICAPS業務部企業副總裁暨總經理Aninda...
2025 年 06 月 18 日

應材發表新技術 為製程微縮增添動能

為了持續提高電晶體密度,晶片製造商正採取兩種可相互搭配的途徑。一種是依循傳統摩爾定律的2D微縮,藉由導入極紫外光(EUV)微影系統與材料工程以縮小線寬;另一種是使用設計技術最佳化(DTCO)與3D技術,將邏輯單元布局最佳化來增加密度,而不需要改變微影間距。若採取第二條路徑,必須導入晶背電源分配網路與閘極全環(Gate-All-Around,...
2022 年 04 月 27 日

應材發表布線工程新方法 邏輯線寬可望挑戰3奈米以下

縮小電路的線寬雖有利於提高電晶體效能,但導體的線寬越細,反而會使電阻增加,拖累晶片效能並增加功耗。若無法在材料工程方面有所突破,從7奈米節點縮到3奈米節點,導線通路電阻將增加10倍,反而失去電晶體微縮本應帶來的好處。為克服此一物理瓶頸,美商應材(Applied...
2021 年 06 月 18 日

挑戰DRAM製程微縮關卡 應材發表三項新技術

在全球經濟數位轉型的帶動下,DRAM的市場需求不斷創造新高。但由於DRAM製程微縮比邏輯電路製程更早遇到瓶頸,故DRAM業界迫切需要新的材料與技術突破,方可繼續縮小DRAM晶片尺寸,進而減少成本,同時以更高的速度和更低的功耗運作。為協助記憶體產業攻克DRAM製程微縮的技術天險,美商應材(Applied...
2021 年 05 月 12 日

晶圓廠擴產急急急 應材業績超亮眼

由於台積電、英特爾(Intel)、三星(Samsung)等半導體廠,在2021年都有資本支出擴張計畫,加上晶片短缺嚴重,使晶圓廠承擔必須加快擴產速度的壓力,2021年對半導體設備跟材料產業來說,絕對是個「金牛年」。全球最大半導體設備商應用材料(Applied...
2021 年 02 月 22 日

應材發表選擇性鎢製程 解決平面微縮瓶頸

美商應用材料(Applied Materials)公司推出新的選擇性鎢(Selective Tungsten) 製程技術,可提供晶片廠商以新的方式構建電晶體觸點,這是連結電晶體與晶片中其他電路非常關鍵的第一層電路。這項選擇性沉積技術能降低影響電晶體性能,導致耗電量增加的接觸電阻。透過這項技術,電晶體的節點微縮與觸點能縮小至5奈米、3奈米甚至更小,並同步提升晶片功率、性能與面積/成本(chip...
2020 年 07 月 22 日

應材22億美元購併國際電氣 鞏固龍頭地位

為擴大5G、人工智慧(AI)等新興市場,以及持續鞏固市場龍頭寶座,應用材料(Applied Materials)宣布以22億美元收購競爭對手國際電氣(Kokusai Electric)。應材指出,此一購併案將會為公司帶來互補、領導性的批量晶圓製程系統業務,為應用材料增加全球客戶服務業務與客戶支援能力;另外,當交易完成時將對非GAAP每股盈餘產生立即性的增值。 應用材料公司總裁暨執行長Gary...
2019 年 07 月 03 日

滿足先進封裝市場需求 材料/設備商新品競出籠

半導體製程日漸精密,帶動設備/材料商加速推出新技術,以滿足晶片先進封裝市場需求。如應用材料公司(Applied Materials)宣布推出新一代Applied Nokota電化學沉積(Electrochemical...
2017 年 03 月 17 日

FinFET/3D NAND前景亮 推升半導體設備需求

鰭式電晶體(FinFET)與3D NAND有助實現更高運算/儲存效能、低耗電量與低成本,滿足車載裝置、物聯網和穿戴式裝置發展需求,因此半導體設備商應用材料(Applied Materials)看好FinFET與3D...
2015 年 09 月 16 日

FinFET/3D IC催馬力 半導體業引爆投資熱潮

鰭式場效電晶體(FinFET)及三維積體電路(3D IC)引爆半導體業投資熱潮。行動裝置與物聯網(IoT)市場快速成長,不僅加速半導體製程技術創新,晶圓廠、設備廠等業者亦加足馬力轉往3D架構及FinFET製程邁進,掀動半導體產業龐大的設備與材料投資風潮。 應用材料集團副總裁暨台灣區總裁余定陸表示,3D...
2014 年 09 月 09 日

邁入20奈米時代 半導體業整併潮加劇

半導體產業整併(Consolidation)現象將更加明顯。半導體晶圓製造商的資本密集度在20奈米(nm)及其以下的製程之後,將呈現更驚人的倍數增長態勢,因此能負擔如此巨額資本資出(CAPEX)的廠商家數愈來愈少,帶動半導體設備商、IC設計業者加速展開購併,以力鞏市場勢力版圖。 應用材料副總裁暨台灣區總裁余定陸表示,半導體晶圓廠投資次世代的技術與研發將變得非常昂貴且風險又高。 ...
2014 年 01 月 21 日