愛德萬測試推出次世代CD-SEM E3660 提升光罩製造精度超過20%
半導體測試設備供應商愛德萬測試近日宣布，推出專為先進半導體製程光罩和極紫外光(EUV)光罩之精密尺寸量測所設計的次世代CD-SEM E3660。與前代E3650相比，E3660在關鍵尺寸(CD)再現性上提升逾20%，幫助製程工程師滿足2奈米節點及更先進製程對光罩製造的要求。透過強化先進元件製造中的微影製程控制，E3660進一步實踐了愛德萬測試在半導體價值鏈中提供全面性測試解決方案的願景。
在先進半導體元件製造中，隨著製程不斷微縮、圖樣日益複雜，微影熱點急劇增加，這些區域在多重曝光及圖樣轉移過程中特別容易產生錯誤。再加上用於形成晶圓電路圖的光罩持續演進，層數更多、幾何更加精細。有鑒於此，需要進行尺寸量測的位置大幅增加，量測系統不僅要滿足高產出要求，還要具備更優異的再現性。
此外，在多光束光罩寫入技術及高效能運算能力持續發展下，業界也開始逐步導入曲線式光罩圖樣。這類圖樣預計在2027年前後，將隨著元件製造採用高數值孔徑(High...
2025 年 09 月 15 日
