imec發表微影技術研究新突破 提高氧氣濃度可提升EUV製程性能

比利時微電子研究中心(imec)日前在2026年國際光學工程學會(SPIE)先進微影成形技術會議上,發表一項重要的研究成果。該研究發現,在進行EUV微影的曝光後烘烤(BEFORCE)步驟時,精準控制氣體成分有助於盡量減少所需的曝光阻劑,進而推動晶圓產量增加。其中,在更高的氧氣濃度下進行BEFORCE,持續展現更佳的金屬氧化物阻劑(MOR)劑量反應。...
2026 年 03 月 02 日