盛美半導體首台高產能KrF工藝設備成功交付中國邏輯晶圓廠

盛美作為為半導體前道和先進晶圓級封裝應用提供晶圓工藝解決方案的供應商,日前宣布推出首款KrF工藝前道塗膠顯影設備Ultra Lith KrF,旨在支持半導體前端製造。該系統的問世標誌著盛美半導體光刻產品系列的重要擴充,具有高產能、先進溫控技術以及即時工藝控制和監測功能。首台設備系統已於2025年9月交付中國頭部邏輯晶圓廠客戶。...
2025 年 09 月 17 日