三星聯手MIT蓋「樓中樓」,意圖繞過台積電的護城河

作者: 林宗輝
2025 年 12 月 15 日
台北信義區的房價之所以貴,是因為土地有限,這道理放在半導體晶片上完全適用。過去五十年,工程師都在做同一件事:把電晶體做小,好在同樣大小的矽晶圓上擠進更多開關。   但現在這條路越來越難走,昂貴的微影機與逼近物理極限的線寬,讓平面微縮的成本高到令人窒息。既然平面蓋不下,往天空發展似乎是唯一解方,但這正是困擾半導體界多年的噩夢。   攝氏400度的冷靜革命   要在晶片上蓋樓非常困難,原因出在溫度。傳統矽電晶體的製造過程動輒超過攝氏1000度,這高溫足以把已經蓋好的一樓(邏輯電路)與昂貴的金屬導線燒毀。這就像你想幫房子加蓋,但施工工法卻可能會先把客廳燒成灰燼。 MIT、滑鐵盧大學與三星電子共同發表的最新研究,正是為了解決這個熱預算難題。他們利用「非晶氧化銦」與「鐵電氧化鉿鋯」這類特殊材料,成功在攝氏400度以下的低溫環境中,直接在晶片後段製程的金屬層上長出垂直的電晶體。   這相當於發明了一種冷焊技術,讓工程師能在精密脆弱的電路迷宮屋頂上安全施工,實現真正的單晶片3D堆疊。   三星的算盤:一體成形的終極野望   三星之所以大力投入這項研究,動機非常單純且充滿野心:這是他們發揮「...
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