摩爾定律續命丹 ASD/DSA解電路圖形化瓶頸

作者: Judith Cheng
2023 年 03 月 30 日
半導體製程持續挺進個位數字奈米節點,為達成摩爾定律的微縮進度,儘管微影技術不斷有所突破,無論是透過各種手段將浸潤式微影解析度推至極限,採用波長更短、技術也日益成熟的極紫外光(EUV)光源微影以實現更高解析度,或是利用分次曝光提升線路密度的多重圖形(Multiple...
》想看更多內容?快來【免費加入會員】【登入會員】,享受更多閱讀文章的權限喔!
標籤
相關文章

延續摩爾定律商機 3D IC/先進製程缺一不可

2010 年 10 月 07 日

先進製程加速推展 半導體設備綻放新商機

2013 年 09 月 07 日

晶片微縮難度高 半導體製程技術日新又新

2019 年 09 月 05 日

解析人工智慧法規 美國/歐盟AI管制各有著重(2)

2023 年 06 月 30 日

解析人工智慧法規 美國/歐盟AI管制各有著重(3)

2023 年 06 月 30 日

地緣政治牽動大國博弈 2026美中競爭下半導體展望

2025 年 11 月 12 日
前一篇
成本低/損耗少/效率高 IGBT輕鬆實現AC頻率轉換
下一篇
凌華/亞旭/泰雅攜手打造MicroRAN 5G專網方案