拜記憶體製造商與晶圓廠加碼擴產之賜，2010年全球半導體資本設備支出金額較2009年劇增143%，其中，先進製程演進和晶片多功能整合趨勢更促使微影(Lithography)與自動化測試設備(ATE)重要性顯著攀升，讓艾司摩爾(ASML)與泰瑞達(Teradyne)2010年營收分別創下高達219%與209%的增長幅度，成為2010年前十大半導體設備供應商中，成長最亮眼的業者。
拜記憶體製造商與晶圓廠加碼擴產之賜，2010年全球半導體資本設備支出金額較2009年劇增143%，其中，先進製程演進和晶片多功能整合趨勢更促使微影(Lithography)與自動化測試設備(ATE)重要性顯著攀升，讓艾司摩爾(ASML)與泰瑞達(Teradyne)2010年營收分別創下高達219%與209%的增長幅度，成為2010年前十大半導體設備供應商中，成長最亮眼的業者。
根據國際研究暨顧問機構Gartner的最終彙整數據，2010年全球半導體設備市場已自前2年的產業衰退期恢復，成長率高達143%，產值約達410億美元，包括自動化測試設備、晶圓廠設備(WFE)及封裝設備(PAE)等次市場區塊的營收皆大幅成長，分別勁揚149%、145%與127%。
Gartner副總裁Klaus Rinnen表示，半導體設備市場在2010年飆漲，是史上成長最為強勁的一年，主要是受到2008年與2009年產業衰退期過後的需求回補，以及優於預期的經濟表現所帶動，其中，最主要的成長動能是來自記憶體廠與晶圓代工廠設備支出增加的貢獻。
應用材料(Applied Materials)在此次調查中仍維持龍頭地位，但由於未能直接受惠於2010年廠商大舉投入微影技術相關資本支出的風潮，市占率未見提升。反觀微影設備大廠ASML，由於在雙重曝光用浸潤式微影(Immersion Lithography)領域表現強勁，不僅營收較2009年暴增219%，讓排名由第三名晉升至第二名，市占率亦增長至13%，成為2010年前十大半導體設備廠中成長最快的公司。此外，自動化設備商泰瑞達年營收成長率也高達209%，表現亦相當搶眼。
 |
